水處理設(shè)備

EDI設(shè)備

產(chǎn)品品牌：

ZTTD

產(chǎn)品型號(hào)：

電去離子（EDI）

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

EDI（電去離子）是在電滲析器的隔膜之間裝填陰陽(yáng)離子交換樹(shù)脂，將電滲析與離子交換有機(jī)的結(jié)合起來(lái)的一種水處理技術(shù)。

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EDI（電去離子）是結(jié)合了電滲析與離子交換兩項(xiàng)技術(shù)各自的特點(diǎn)而發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)，與普通電滲析相比，由于淡室中填充了離子交換樹(shù)脂，大大提高了膜間導(dǎo)電性，顯著增強(qiáng)了由溶液到膜面的離子遷移，破壞了膜面濃度滯留層中的離子貧乏現(xiàn)象，提高了極限電流密度；與普通離子交換相比，由于膜間高電勢(shì)梯度，迫使水解離為H⁺和OH^-，H⁺和OH^-一方面參預(yù)負(fù)載電流，另一方面可以又對(duì)樹(shù)脂起就地再生的作用，因此EDI不需要對(duì)樹(shù)脂進(jìn)行再生，可以省掉離子交換所必需的酸堿貯罐，也減少了環(huán)境污染。

通過(guò)EDI設(shè)備處理后的水，產(chǎn)水電導(dǎo)率＞16MΩ.cm，二氧化硅（SiO2）去除率高至99%或出水含量＜5ppb。

工作原理

● 原水進(jìn)入系統(tǒng)將分成3股獨(dú)立的水流：淡水，約占進(jìn)水的90～95%；濃水，約占進(jìn)水的5～10 %；極水約占進(jìn)水的1%（如有）。水流流向與膜層表面平行。
● 模塊兩端的電極提供了橫向的直流電場(chǎng)，電流驅(qū)動(dòng)水中的陽(yáng)離子（如鈉離子Na⁺）透過(guò)陽(yáng)離子膜，反之陰離子（如氯離子Cl^-）透過(guò)陰離子膜，并防止陰陽(yáng)離子由另一側(cè)濃水室進(jìn)入淡水室（陰離子不能透過(guò)陽(yáng)離子膜，陽(yáng)離子不能透過(guò)陰離子膜），水從離子膜表面流過(guò)而不能透過(guò)離子膜。陰陽(yáng)離子從淡水室遷移到濃水室。在此過(guò)程可以去除大多數(shù)的強(qiáng)電解質(zhì)物質(zhì)，離子交換樹(shù)脂起到簡(jiǎn)單的導(dǎo)體作用。
● 離子交換樹(shù)脂與原水的弱電解質(zhì)物質(zhì)（如硅）進(jìn)行交換。
● 電流促使水分子電解成氫離子H⁺和氫氧根離子OH^-，這些H⁺和OH^-連續(xù)再生充填在淡水室內(nèi)的離子交換樹(shù)脂。
● 進(jìn)水中的陰陽(yáng)離子在連續(xù)進(jìn)入濃水室后被去除，高純度的淡水連續(xù)從淡水室流出，其結(jié)果是降低了淡水室中水的離子濃度和增加了濃水室中水的離子濃度，從而使得淡水室中水的純度越來(lái)越高。

EDI相對(duì)于混床的優(yōu)勢(shì)

● 消除混床再生化學(xué)品的使用
混床系統(tǒng)中，通常采用酸堿對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行再生，但是這樣一來(lái)將增加遵守越來(lái)越嚴(yán)格的環(huán)保和安全標(biāo)準(zhǔn)的難度。采用EDI技術(shù)則消除了此類有害化學(xué)品的使用。
● 連續(xù)而簡(jiǎn)單的操作
混床系統(tǒng)再生為間歇性的，從而導(dǎo)致操作程序復(fù)雜，產(chǎn)水水質(zhì)波動(dòng)較大，系統(tǒng)必須留有很大的余量。而EDI系統(tǒng)為連續(xù)再生，具有產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，運(yùn)行簡(jiǎn)單等特點(diǎn)。
● 無(wú)有害廢水產(chǎn)生
混床再生廢水主要是廢酸和廢堿，排放前必須經(jīng)過(guò)中和。而EDI技術(shù)則不需要任何化學(xué)品再生，其濃水可被直接排放或者作為RO進(jìn)水循環(huán)利用。
● 占地面積小
由于采用了模塊化技術(shù)，因此EDI在安裝時(shí)對(duì)設(shè)備的高度和空間具有更多的選擇，EDI系統(tǒng)相對(duì)于同等處理能力的混床需要更少的占地面積。
● 易于維護(hù)
如果系統(tǒng)內(nèi)某一個(gè)模塊因故暫時(shí)脫離工作，進(jìn)水能夠在其余模塊中重新分配，使系統(tǒng)的總體運(yùn)行效果不受影響。

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EDI設(shè)備